|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 45 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigating the plasma parameters and discharge asymmetry in dual magnetron reactive high power impulse magnetron sputtering discharge with Al in Ar/O2 mixture |
| Auteur: |
Zhou, Guangxue Wang, Langping Wang, Xiaofeng Yu, Yonghao |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 175 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 45 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |