|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 53 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of plasma power on properties of hydrogenated amorphous silicon carbide hardmask films deposited by PECVD |
| Auteur: |
Kwon, Sungyool Park, Yoonsoo Ban, Wonjin Youn, Chulmin Lee, Sungwoo Yang, Jaeyoung Jung, Donggen Choi, Taekjib |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 174 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 53 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |