|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 85 gevonden artikelen
| Titel: |
Evolution of etch profile of copper thin films in high density plasmas of alcohol-based gases |
| Auteur: |
Lim, Eun Taek Ryu, Jin Su Choi, Jae Sang Chung, Chee Won |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 167 (2019) nr. C pagina's 145-151 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 85 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |