|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 37 van 48 gevonden artikelen
| Titel: |
Parametric study and residual gas analysis of large-area silicon-nitride thin-film deposition by plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Xiang, Dong Xia, Huanxiong Yang, Wang Mou, Peng |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 165 (2019) nr. C pagina's 172-178 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 37 van 48 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |