|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 53 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma parameters, gas-phase chemistry and Si/SiO2 etching mechanisms in HBr+Cl2+O2 gas mixture: Effect of HBr/O2 mixing ratio |
| Auteur: |
Lee, Byung Jun Efremov, Alexander Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 163 (2019) nr. C pagina's 110-118 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 53 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |