|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 57 gevonden artikelen
| Titel: |
A single nano-void precisely positioned in SiO2/Si substrate by focused helium ion beam technique |
| Auteur: |
Yang, Che-Wei Chou, Chieh Chen, Wei-Chieh Lin, Hao-Hsiung |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 152 (2018) nr. C pagina's 188-192 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 57 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |