Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 49 van 57 gevonden artikelen
 
 
  The influence of oxygen ratio on the plasma parameters of argon RF inductively coupled discharge
 
 
Titel: The influence of oxygen ratio on the plasma parameters of argon RF inductively coupled discharge
Auteur: Wang, Yong
Chen, Junfang
Wang, Yan
Xiong, Wenwen
Verschenen in: Vacuum
Paginering: Jaargang 149 (2018) nr. C pagina's 291-296
Jaar: 2018
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 49 van 57 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland