|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 36 van 57 gevonden artikelen
| Titel: |
Passivation performance improvement of ultrathin ALD-Al2O3 film by chemical oxidation |
| Auteur: |
Cha, Hamchorom Chang, Hyo Sik |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 149 (2018) nr. C pagina's 180-184 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 36 van 57 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |