|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
RF bias to suppress post-oxidation of μc-Si:H films deposited by inductively-coupled plasma using a planar RF resonant antenna |
| Auteur: |
Demolon, P. Guittienne, Ph. Howling, A.A. Jost, S. Jacquier, R. Furno, I. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 147 (2018) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |