|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhanced electrical and reliability characteristics in HfON gated Ge p-MOSFETs with H2 and NH3 plasma treated interfacial layers |
| Auteur: |
Huang, Jiayi Chang-Liao, Kuei-Shu Li, Chen-Chien Li, Yan-Lin Tsai, Chia-Chi Ku, Chao-Chen Chen, Po-Yen Huang, Tse-Jung Wu, Tzung-Yu Chu, Fu-Chuan Yi, Shih-Han |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 140 (2017) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |