|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma characteristics and properties of Cu films prepared by high power pulsed magnetron sputtering |
| Auteur: |
Wu, B.H. Wu, J. Jiang, F. Ma, D.L. Chen, C.Z. Sun, H. Leng, Y.X. Huang, N. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 135 (2017) nr. C pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |