Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 9 van 39 gevonden artikelen
 
 
  Diffusion of silicon in titanium dioxide thin films with different degree of crystallinity: Efficiency of TiO2 and TiN barrier layers
 
 
Titel: Diffusion of silicon in titanium dioxide thin films with different degree of crystallinity: Efficiency of TiO2 and TiN barrier layers
Auteur: Libardi, J.
Grigorov, K.G.
Massi, M.
da Silva Sobrinho, A.S.
Pessoa, R.S.
Sismanoglu, B.
Verschenen in: Vacuum
Paginering: Jaargang 128 (2016) nr. C pagina's 8 p.
Jaar: 2016
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 9 van 39 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland