|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 53 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of pulse phase lag in the dual synchronized pulsed capacitive coupled plasma on the etch characteristics of SiO2 by using a C4F8/Ar/O2 gas mixture |
| Auteur: |
Jeon, Min Hwan Yang, Kyung Chae Kim, Kyong Nam Yeom, Geun Young |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 121 (2015) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 53 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |