|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 48 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of TaN as the wet etch stop layer for HKMG-last integration in the 22 nm and beyond nodes CMOS technology |
| Auteur: |
Cui, Hushan Luo, Jun Xu, Jing Gao, Jianfeng Xiang, Jinjuan Tang, Zhaoyun Wang, Xiaolei Lu, Yihong He, Xiaobin Li, Tingting Tang, Bo Yu, Jiahan Yang, Tao Yan, Jiang Li, Junfeng Zhao, Chao Ye, Tianchun |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 119 (2015) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 48 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |