|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 67 gevonden artikelen
| Titel: |
Development of low-pressure high-frequency plasma chemical vapor deposition method on surface modification of silicon wafer |
| Auteur: |
Thungsuk, Nuttee Nuchuay, Peerapong Hirotani, Daisuke Okamura, Yoshimi Nakabayashi, Kenichi Kinoshita, Hiroyuki Yuji, Toshifumi Mungkung, Narong Kasayapanand, Nat |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 109 (2014) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 67 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |