|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 109 van 184 gevonden artikelen
| Titel: |
Modelling of deep silicon etching in multicomponent plasma |
| Auteur: |
Abachev, MK Baryshev, YuP Lukichev, VF Orlikovsky, AA |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 43 (1992) nr. 5-7 pagina's 2 p. |
| Jaar: |
1992 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 109 van 184 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |