|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Machine learning-based run-to-run control of a spatial thermal atomic layer etching reactor |
| Auteur: |
Tom, Matthew Yun, Sungil Wang, Henrik Ou, Feiyang Orkoulas, Gerassimos Christofides, Panagiotis D. |
| Verschenen in: |
Computers and chemical engineering |
| Paginering: | Jaargang 168 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |