|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 34 gevonden artikelen
| Titel: |
Interfacial and electrical properties of Al2O3/HfO2 bilayer deposited by atomic layer deposition on GeON passivated germanium surface |
| Auteur: |
Patil, V.S. Agrawal, K.S. Khairnar, A.G. Thibeault, B.J. Mahajan, A.M. |
| Verschenen in: |
Materials research bulletin |
| Paginering: | Jaargang 87 (2017) nr. C pagina's 208-213 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 34 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |