|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 148 gevonden artikelen
| Titel: |
Deposition temperature dependent optical and electrical properties of ALD HfO2 gate dielectrics pretreated with tetrakisethylmethylamino hafnium |
| Auteur: |
Gao, J. He, G. Zhang, J.W. Liu, Y.M. Sun, Z.Q. |
| Verschenen in: |
Materials research bulletin |
| Paginering: | Jaargang 70 (2015) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 148 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |