|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Oxygen and hydrogen effects on the chemical vapor deposition of aluminium nitride films |
| Auteur: |
Aspar, B. Armas, B. Combescure, C. Figueras, A. Rodriguez-Clemente, R. Mazel, A. Kihn, Y. Sévely, J. |
| Verschenen in: |
Materials research bulletin |
| Paginering: | Jaargang 28 (1993) nr. 6 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
1993 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |