Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 25 van 46 gevonden artikelen
 
 
  Investigation of BTI characteristics and its behavior on 10nm SRAM with high-k/metal gate FinFET technology having multi-VT gate stack
 
 
Titel: Investigation of BTI characteristics and its behavior on 10nm SRAM with high-k/metal gate FinFET technology having multi-VT gate stack
Auteur: Jin, Minjung
Kim, Kangjung
Kim, Yoohwan
Shim, Hyewon
Kim, Jinju
Kim, Gunrae
Pae, Sangwoo
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 81 (2018) nr. C pagina's 201-209
Jaar: 2018
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 25 van 46 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland