|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Degradation induced by TID radiation and hot-carrier stress in 130-nm short channel PDSOI NMOSFETs |
| Auteur: |
Dai, Lihua Liu, Xiaonian Zhang, Mengying Zhang, Leqing Hu, Zhiyuan Bi, Dawei Zhang, Zhengxuan Zou, Shichang |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 74 (2017) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |