|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 46 gevonden artikelen
| Titel: |
Band diagram for low-k/Cu interconnects: The starting point for understanding back-end-of-line (BEOL) electrical reliability |
| Auteur: |
Mutch, Michael J. Pomorski, Thomas Bittel, Brad C. Cochrane, Corey J. Lenahan, Patrick M. Liu, Xin Nemanich, Robert J. Brockman, Justin French, Marc Kuhn, Markus French, Benjamin King, Sean W. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 63 (2016) nr. C pagina's 13 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 46 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |