Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
   volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 1 van 24 gevonden artikelen
 
 
  Accurate lifetime prediction for channel hot carrier stress on sub-1nm equivalent oxide thickness HK/MG nMOSFET with thin titanium nitride capping layer
 
 
Titel: Accurate lifetime prediction for channel hot carrier stress on sub-1nm equivalent oxide thickness HK/MG nMOSFET with thin titanium nitride capping layer
Auteur: Luo, Weichun
Yang, Hong
Wang, Wenwu
Xu, Yefeng
Tang, Bo
Ren, Shangqing
Xu, Hao
Wang, Yanrong
Qi, Luwei
Yan, Jiang
Zhu, Huilong
Zhao, Chao
Chen, Dapeng
Ye, Tianchun
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 62 (2016) nr. C pagina's 4 p.
Jaar: 2016
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 1 van 24 gevonden artikelen
 
   volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland