|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 31 van 44 gevonden artikelen
| Titel: |
Physical properties and electrical characteristics of H2O-based and O3-based HfO2 films deposited by ALD |
| Auteur: |
Fan, Jibin Liu, Hongxia Kuang, Qianwei Gao, Bo Ma, Fei Hao, Yue |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 52 (2012) nr. 6 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 31 van 44 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |