|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
The self-formatting barrier characteristics of Cu–Mg/SiO2 and Cu–Ru/SiO2 films for Cu interconnects |
| Auteur: |
Yi, Seol-Min Jang, Kwang-Ho An, Jung-Uk Hwang, Sang-Soo Joo, Young-Chang |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 48 (2008) nr. 5 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 21 gevonden artikelen
| << vorige |