|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Negative bias temperature instability on three oxide thicknesses (1.4/2.2/5.2 nm) with nitridation variations and deuteration |
| Auteur: |
Hook, Terence B. Bolam, Ronald Clark, William Burnham, Jay Rovedo, Nivo Schutz, Laura |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 45 (2005) nr. 1 pagina's 10 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |