|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 86 van 102 gevonden artikelen
| Titel: |
Reservoir effect and maximum allowed VIA misalignment for AlCu interconnect with tungsten VIA plug |
| Auteur: |
Li, Yuan Jelle Veenstra, Klaas Dubois, Jerôme Peters-Wu, Lei van Zomeren, Agnes Kuper, Fred |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 43 (2003) nr. 9-11 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 86 van 102 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |