|
In-situ sem observation of electromigration in thin metal films at accelerated stress conditions |
|
|
|
Titel: |
In-situ sem observation of electromigration in thin metal films at accelerated stress conditions |
Auteur: |
d'Haen, J. Van Olmen, J. Beelen, Z. Manca, J.V. Martens, T. De Ceuninck, W. d'Olieslaeger, M. De Schepper, L. Cannaerts, M. Maex, K. |
Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
Paginering: |
Jaargang 40 (2000) nr. 8-10 pagina's 6 p. |
Jaar: |
2000 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|