Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 3 van 80 gevonden artikelen
 
 
  Annealing effects in the PECVD SiO2 thin films deposited using TEOS, Ar and O2 mixture
 
 
Titel: Annealing effects in the PECVD SiO2 thin films deposited using TEOS, Ar and O2 mixture
Auteur: Viana, C.E
Morimoto, N.I
Bonnaud, O
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 40 (2000) nr. 4-5 pagina's 4 p.
Jaar: 2000
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Science Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 3 van 80 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland