|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
The kinetics of the early stages of electromigration and concurrent temperature induced processes in thin film metallisations studied by means of an in-situ high resolution resistometric technique |
| Auteur: |
Van Olmen, J. Manca, J.V. De Ceuninck, W. De Schepper, L. D’Haeger, V. Witvrouw, A. Maex, K. Vandevelde, B. Beyne, E. Tielemans, L. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 39 (1999) nr. 11 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 19 gevonden artikelen
| << vorige |