Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 27 van 78 gevonden artikelen
 
 
  Enhancement of t bd of mos gate oxides with a single-step pre-stress prior to a CVS in the Fowler-Nordheim regime
 
 
Titel: Enhancement of t bd of mos gate oxides with a single-step pre-stress prior to a CVS in the Fowler-Nordheim regime
Auteur: Martini, A.
Ribbrock, T.
O'Sullivan, P.
Mathewson, A.
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 36 (1996) nr. 11-12 pagina's 1647-1650
Jaar: 1996
Inhoud:
Uitgever: Published by Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 27 van 78 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland