|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
The applicability of logarithmic extreme value distributions in electomigration induced failures of Al Cu thin-film interconnects |
| Auteur: |
Loupis, M.I. Avaritsiotis, J.N. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 35 (1995) nr. 3 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |