|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 37 van 183 gevonden artikelen
| Titel: |
Change of the electron effective mass in extremely heavily doped n-type Si obtained by ion implantation and laser annealing |
| Auteur: | |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 21 (1981) nr. 5 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
1981 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 37 van 183 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |