Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 6 van 24 gevonden artikelen
 
 
  Gate oxide lifetime modeling of vertical SiC-MOS under accelerated reverse bias (ARB)
 
 
Titel: Gate oxide lifetime modeling of vertical SiC-MOS under accelerated reverse bias (ARB)
Auteur: Biswas, Ayan K.
Lichtenwalner, Daniel J.
Hull, Brett
Gajewski, Donald A.
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 172 () nr. C pagina's p.
Jaar: 2025
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 6 van 24 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland