Details van artikel 110 van 115 gevonden artikelen
Study of the influence of gate etching and passivation on current dispersion, trapping and reliability in RF 0.15 μm AlGaN/GaN HEMTs
Titel:
Study of the influence of gate etching and passivation on current dispersion, trapping and reliability in RF 0.15 μm AlGaN/GaN HEMTs
Auteur:
Chiocchetta, F. De Santi, C. Rampazzo, F. Mukherjee, K. Grünenpütt, Jan Sommer, Daniel Blanck, Hervé Lambert, Benoit Gerosa, A. Meneghesso, G. Zanoni, E. Meneghini, M.
Verschenen in:
Microelectronics reliability
Paginering:
Jaargang 138 () nr. C pagina's p.
Jaar:
2022
Inhoud:
Uitgever:
Elsevier Ltd
Bronbestand:
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
Details van artikel 110 van 115 gevonden artikelen