|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 11 gevonden artikelen
| Titel: |
Total ionizing dose effects on resistance stability of Pt/HfO2/Al2O3/TiN structure RRAM devices |
| Auteur: |
Luo, Haipeng Liang, Yifan Tang, Minghua Li, Gang Xiong, Ying Sun, Yunlong Liu, Yulin Ouyang, Sha Xiao, Yongguang Yan, Shaoan Zhang, Wanli Chen, Qilai Li, Zheng |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 106 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 11 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |