Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 389 van 2989 gevonden artikelen
 
 
  A study on the interfacial adhesion energy between capping layer and dielectric for cu interconnects
 
 
Titel: A study on the interfacial adhesion energy between capping layer and dielectric for cu interconnects
Auteur: Kim, Cheol
Son, Kirak
Kim, Gahui
Kim, Sungtae
Lee, Sol-Kyu
Lee, So-Yeon
Park, Young-Bae
Joo, Young-Chang
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 116 () nr. C pagina's p.
Jaar: 2021
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 389 van 2989 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland