|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 90 van 551 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of Ti diffusion in PVD deposited WTi/AlCu metallization on monocrystalline Si by means of secondary ion mass spectroscopy |
| Auteur: |
Plappert, M. Humbel, O. Koprowski, A. Nowottnick, M. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 52 (2012) nr. 9-10 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 90 van 551 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |