|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 269 van 551 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of local structural and electrical properties of grain boundaries in polycrystalline HfO2 on reliability of SiO x interfacial layer |
| Auteur: |
Shubhakar, K. Raghavan, N. Kushvaha, S.S. Bosman, M. Wang, Z.R. O’Shea, S.J. Pey, K.L. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 54 (2014) nr. 9-10 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 269 van 551 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |