|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 202 van 551 gevonden artikelen
| Titel: |
Evidence of chlorine ion penetration in InP/InAsP quantum well structures during dry etching processes and effects of induced-defects on the electronic and structural behaviour |
| Auteur: |
Landesman, J.P. Levallois, C. Jiménez, J. Pommereau, F. Léger, Y. Beck, A. Delhaye, T. Torres, A. Frigeri, C. Rhallabi, A. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 55 (2015) nr. 9-10 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 202 van 551 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |