|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 418 van 572 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma-enhanced flexible metal–insulator–metal capacitor using high-k ZrO2 film as gate dielectric with improved reliability |
| Auteur: |
Chu, Min-Ching Meena, Jagan Singh Cheng, Chih-Chia You, Hsin-Chiang Chang, Feng-Chih Ko, Fu-Hsiang |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 50 (2010) nr. 8 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 418 van 572 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |