|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 87 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of process steps on electrical and electromigration performances of copper interconnects in damascene architecture |
| Auteur: |
Gonella, R. Torres, J. Motte, P. van der Vegt, E. Gilet, J.M. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 40 (2000) nr. 8-10 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 87 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |