|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 669 van 3051 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison of low-temperature electrical characteristics of gate-all-around nanowire FETs, Fin FETs and fully-depleted SOI FETs |
| Auteur: |
Tachi, Kiichi Barraud, Sylvain Kakushima, Kuniyuki Iwai, Hiroshi Cristoloveanu, Sorin Ernst, Thomas |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 51 (2011) nr. 5 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 669 van 3051 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |