|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 534 van 3981 gevonden artikelen
| Titel: |
Assessment of temperature and voltage accelerating factors for 2.3–3.2nm SiO2 thin oxides stressed to hard breakdown |
| Auteur: |
Pic, D. Goguenheim, D. Ogier, J.L. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 48 (2008) nr. 3 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 534 van 3981 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |