|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 233 van 827 gevonden artikelen
| Titel: |
Design optimization of gate-silicided ESD NMOSFETs in a 45nm bulk CMOS technology |
| Auteur: |
Alvarez, David Chatty, Kiran Russ, Christian Abou-Khalil, Michel J. Li, Junjun Gauthier, Robert Esmark, Kai Halbach, Ralph Seguin, Christopher |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 49 (2009) nr. 12 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 233 van 827 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |