Details van artikel 254 van 276 gevonden artikelen
The kinetics of the early stages of electromigration and concurrent temperature induced processes in thin film metallisations studied by means of an in-situ high resolution resistometric technique
Titel:
The kinetics of the early stages of electromigration and concurrent temperature induced processes in thin film metallisations studied by means of an in-situ high resolution resistometric technique
Auteur:
Van Olmen, J. Manca, J.V. De Ceuninck, W. De Schepper, L. D’Haeger, V. Witvrouw, A. Maex, K. Vandevelde, B. Beyne, E. Tielemans, L.
Verschenen in:
Microelectronics reliability
Paginering:
Jaargang 39 (1999) nr. 11 pagina's 9 p.
Jaar:
1999
Inhoud:
Uitgever:
Elsevier Science Ltd
Bronbestand:
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
Details van artikel 254 van 276 gevonden artikelen