|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 102 van 123 gevonden artikelen
| Titel: |
Significantly improving sub-90nm CMOSFET performances with notch-gate enhanced high tensile-stress contact etch stop layer |
| Auteur: |
Hsu, Chia-Wei Fang, Yean-Kuen Yeh, Wen-Kuan Lin, Chien-Ting |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 48 (2008) nr. 11-12 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 102 van 123 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |