|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Doping and annealing effects on ESR in chemically vapor deposited amorphous silicon |
| Auteur: |
Hasegawa, S. Kasajima, T. Shimizu, T. |
| Verschenen in: |
Solid state communications |
| Paginering: | Jaargang 29 (1979) nr. 1 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1979 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |