|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 34 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of electrical stress on the electrical characteristics of 2MeV electron irradiated metal-oxide-silicon capacitors with atomic layer deposited Al2O3, HfO2 and nanolaminated dielectrics |
| Auteur: |
Rafí, J.M. González, M.B. Takakura, K. Tsunoda, I. Yoneoka, M. Beldarrain, O. Zabala, M. Campabadal, F. |
| Verschenen in: |
Solid-state electronics |
| Paginering: | Jaargang 89 (2013) nr. C pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 34 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |